CMP/精密研磨/各種清浄度測定/圧力分布測定

半導体デバイス研磨

CMPパッドのリーディングカンパニーであるニッタ・ハース社製IC1000™に加えスラリー、コンデショナー等、各種製品をラインナップしております。

お客様のご要望に迅速にお答え致します。ご気軽にご相談ください。

CMPスラリー

酸化膜用スラリーとしてILD™4000シリーズ(ヒュームドシリカ)、タングステン用スラリーとしてWolflat™シリーズ(高選択、非選択)、Cuバリアー用としてはACuPLANE™シリーズと各用途に適したスラリーをご用意しています。

CMPパッド

半導体デバイスCMP研磨標準仕様であるIC1000™を筆頭にDefect性能に優れたVisionPad™シリーズ等、お客様のリクエスト内容に合わせて最適なパッドをご紹介いたします。

ダイヤモンドコンディショナー

ICパッドは使用開始にあたり、未使用の平滑・疎水状態から【目立て】をすることにより研磨加工に最適な親水表面形状を形成します。また、研磨加工が進んで劣化、変化、目詰まりした研磨パッド表面を回復させるためにIn-SituもしくはEx-situコンデショニングが欠かせません。お客様の状況に合わせて最適なご提案をさせていただきます。