シリコンウェーハ研磨スラリー　
Nanopure™

Nanopure™6000シリーズ　※シリコン1次～2次研磨

NP6000シリーズは水ガラスシリカベースのシリコン1次・2次研磨用コロイダルシリカスラリーです。高希釈倍率においても、高研磨レートと表面粗さ低減及び高平坦化特性を実現しCoO低減に寄与します。

Nanopure™7000シリーズ　※シリコン2次研磨

NP7000シリーズは高純度シリカベースのシリコン２次研磨用コロイダルシリカスラリーです。2次研磨で求められる研磨レート、表面性能を高希釈倍率で達成し、仕上げ研磨性能の向上に貢献します。

Nanopure™8000シリーズ　※シリコンファイナル

NP8000シリーズは、シリコンウェーハのダメージフリー、ヘイズフリーの完全鏡面を実現する仕上げ研磨用スラリーです。高濃度のコロイダルシリカゾルをベースとしており、デバイス性能に影響を及ぼす金属不純物要求にもお応えいたします。